マイクロ波発生装置

前のページへ戻る このカテゴリーのトップへ 次のページへ進む
パルス波発振動作は、陽極電圧Ebをパルス的に印加してパルス発振させるもので(例;パルス幅;3μs、パルス率;0.001)、図9.1.11 にEb、Ib、Poの関係を示している。
尚、「パルス率=0.001」とは図9.1.10 に示すように、時系列的に「発振:停止=1:1000」程度で使用するもので、平均出力はピーク出力のパルス率倍となる。

図9.1.10 パルス率
図9.1.10 パルス率

図9.1.11 パルス発振
図9.1.11 パルス発振

パルス波発振動作の主な使用目的は、各種のレ−ダ用(基地用、船舶用、航空用、気象用など)などである。

図9.1.12 にはCWマグネトロンのオシロスコープの波形を撮影した実際の陽極電流の波形例を示している。

(a) は単相半波倍電圧整流回路のIb波形の写真だが、「二コブらくだ」のように山が二つあるのが特徴である。写真のように高い山が前半に来るか?後半にあるか?は使われている回路部品の仕様により変ってくる。

(b) はインバータ方式(スイッチング電源)を利用した低リップルのEbを印加した場合のIb波形を示しており、リップル率=1%以下で、殆ど脈動の無い直流のようになっている。

(a) 単相半波倍電圧整流方式
(a) 単相半波倍電圧整流方式

(b) 低リップル方式
(b) 低リップル方式

図9.1.12 実際の陽極電流波形
☆ 捕捉説明:リップル
リップルとは図9.1.13 の山の高さ(V)と隣り合う山同士が重なる交点と山の頂点の差(凾u)を示すもので、その割合(α)をリップル率と称している。
α=(凾u/V)*100  (%) (9.1.1)

図9.1.13 リップル
図9.1.13 リップル

前のページへ戻る このカテゴリーのトップへ 次のページへ進む